ppo_ECHELON

Echelon Flex Endopath Stablers

Ethicon

Johnson and Johnson

Fabrikat/model

ECHELON FLEX ENDOPATH Staplers

Ethicon

Johnson & Johnson

Statisk feltstyrke

Maksimalt 3,0 Tesla

Scannerarkitektur

Tunnel-design, cylindrisk magnet

Spatial gradient

Maksimalt 7,2 T/m (720 Gauss/cm)

Slew rate (Gr)

200 T/m/s

SAR

Maksimal WB-SAR: 2,7 W/kg pr. 15 min

B1+rms

Ingen restrektioner

Coil type

Ingen restrektioner

Artefakter

Maksimalt 3 mm fra implantatet

Temperaturstigning

Maksimalt 2 grader ved ovennævnte SAR-restriktion

Kilde

IFU fra producenten: Referente 1016 og 1058

Gyldighed

Denne procedure kan anvendes som inspirationskilde til udvikling af egne sikkerhedsforskrifter

Information

Procedure 1059. Revision: 1.5

Udarbejdet af: Bo Haugaard Jørgensen

Dato: 17.02.2023

Opdateres: Løbende, senest 01.01.2025