ppz_ECHELON_CONTOUR_Ethicon

Echelon Contour Staple

Ethicon

Fabrikat/model

ECHELON CONTOUR staple

Ethicon

Statisk feltstyrke

1,5 Tesla og 3,0 Tesla

Scannerarkitektur

Tunnel-design, cylindrisk magnet

Spatial gradient

Maksimalt 30 T/m (3000 Gauss/cm)

Slew rate (Gr)

200 T/m/s

SAR

Maksimal WB-SAR: 2,0 W/kg pr. 15 min

B1+rms

Ingen restrektioner

Coil type

Ingen restrektioner

Artefakter

Maksimalt 40 mm fra implantatet

Temperaturstigning

Maksimalt 2 grader ved ovennævnte SAR-restriktion

Kilde

IFU fra producenten: Referente 1069_001

Gyldighed

Denne procedure kan anvendes som inspirationskilde til udvikling af egne sikkerhedsforskrifter

Information

Procedure 1069. Revision: 1.5

Udarbejdet af: Bo Haugaard Jørgensen

Dato: 26.03.2023

Opdateres: Løbende, senest 01.01.2025