Echelon Contour Staple
Ethicon
Fabrikat/model | ECHELON CONTOUR staple Ethicon |
Statisk feltstyrke | 1,5 Tesla og 3,0 Tesla |
Scannerarkitektur | Tunnel-design, cylindrisk magnet |
Spatial gradient | Maksimalt 30 T/m (3000 Gauss/cm) |
Slew rate (Gr) | 200 T/m/s |
SAR | Maksimal WB-SAR: 2,0 W/kg pr. 15 min |
B1+rms | Ingen restrektioner |
Coil type | Ingen restrektioner |
Artefakter | Maksimalt 40 mm fra implantatet |
Temperaturstigning | Maksimalt 2 grader ved ovennævnte SAR-restriktion |
Kilde | IFU fra producenten: Referente 1069_001 |
Gyldighed | Denne procedure kan anvendes som inspirationskilde til udvikling af egne sikkerhedsforskrifter |
Information | Procedure 1069. Revision: 1.5 Udarbejdet af: Bo Haugaard Jørgensen Dato: 26.03.2023 Opdateres: Løbende, senest 01.01.2025 |